• WGL-2半導體泵浦鐳射原理實驗裝置
    WGL-2半導體泵浦鐳射原理實驗裝置

    WGL-2 半導體泵浦鐳射原理實驗裝置適用於大學近代物理教學中非線性光學實驗↟↟✘│·,本實驗以808nm半導體泵浦Nd╃▩:YVO4鐳射器為研究物件↟↟✘│·,讓學生自己動手↟↟✘│·,調整鐳射器光路↟•。在諧振腔中插入KTP晶體產生532nm倍頻光↟↟✘│·,觀察倍頻現象↟↟✘│·,測量相位匹配角↟↟✘│·,閾值等基本引數↟•。從而對鐳射原理及鐳射技術有一定的瞭解↟•。

    時間╃▩:2020-04-07型號╃▩:WGL-2
  • WGL-4氦氖鐳射器系列實驗
    WGL-4氦氖鐳射器系列實驗

    WGL-4 氦氖鐳射器系列實驗 儀器介紹透過氦氖鐳射器的裝調↟↟✘│·,改變諧振腔的長度↟↟✘│·,觀察鐳射模式的變化↟↟✘│·,來培養學生實驗的動手能力↟•。使用共焦球面掃描干涉儀↟↟✘│·,讓學生較直觀地觀察橫模和縱模的頻譜分佈↟•。測量He-Ne鐳射器的發散角↟•。

    時間╃▩:2020-04-07型號╃▩:WGL-4
  • WGL-5半導體鐳射器實驗系列
    WGL-5半導體鐳射器實驗系列

    WGL-5 半導體鐳射器實驗系列 儀器介紹 透過測量半導體鐳射器的功率↟↟✘│·,電壓和電流↟↟✘│·,讓學生了解半導體鐳射器在連續輸出下的工作特性↟•。用WGD-6光學多道分析器觀測↟↟✘│·,半導體鐳射器注入電流小於閾值時發射的熒光↟↟✘│·,和大於閾值電流時產生鐳射振盪的譜線變化↟•。

    時間╃▩:2020-04-06型號╃▩:WGL-5
  • WGL-6氦氖鐳射器模式分析實驗裝置
    WGL-6氦氖鐳射器模式分析實驗裝置

    WGL-6 氦氖鐳射器模式分析實驗裝置 在鐳射器的生產與應用中↟↟✘│·,我們通常需要先知道鐳射器的模式狀況↟↟✘│·,如精密測量╃•、全息技術等工作需要基橫模輸出的鐳射器↟↟✘│·,而鐳射器穩頻和鐳射測距等不僅要基橫模而且要求單縱模執行的鐳射器↟•。因此↟↟✘│·,進行模式分析是鐳射器的一項基本又重要的效能測試↟•。

    時間╃▩:2020-04-06型號╃▩:WGL-6
  • WGL-3脈衝調Q Nd╃▩:YAG倍頻鐳射器實驗裝置
    WGL-3脈衝調Q Nd╃▩:YAG倍頻鐳射器實驗裝置

    WGL-3 脈衝調Q Nd╃▩:YAG倍頻鐳射器實驗裝置 該實驗系統讓學生透過自己動手裝調鐳射器↟↟✘│·,掌握鐳射器的基本結構╃•、主要引數╃•、輸出特性╃•、調整方法╃•、以及調Q╃•、選模╃•、倍頻等↟•。使學生對鐳射器的原理↟↟✘│·,鐳射技術有較全面的認識↟•。

    時間╃▩:2020-04-06型號╃▩:WGL-3
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